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《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志主要接收以下類型的文章：

工程技術-工程：化工領域的研究?：文章內容涵蓋工程：化工領域的最新研究成果、技術革新和學術動態。

高質量學術論文?：雜志對文章質量要求較高，通常接收具有創新性和學術價值的研究成果。

投稿要求

內容要求：投稿的文章應涵蓋物理與天體物理的關鍵主題，提供最新的研究進展和學術動態。

格式要求：投稿者需要遵循《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的投稿要求和格式規范，包括文章結構、引用格式等。

其他信息

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志出版周期：Quarterly，出版地區：UNITED STATES，語言：English。

該雜志屬于中科院分區中大類學科物理與天體物理領域的3區，小類學科ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工領域的3區。小類學科PHYSICS, APPLIED物理：應用領域的3區。小類學科PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體領域的3區。

投稿咨詢

在JCR分區中為Q2（ 按JIF指標學科分區學科為ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名91 / 170，百分位46.8%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名81 / 179，百分位55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名12 / 40，百分位71.3%； 按JCI指標學科分區在學科為ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名55 / 171，百分位68.13%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名69 / 179，百分位61.73%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名17 / 40，百分位58.75% ）。

目前是未開放獲取期刊（OA） ，審稿周期預計為：平均審稿速度為 較慢,6-12周 ，影響因子指數2.6。

該雜志創刊至今，在物理與天體物理-工程：化工領域，影響力非凡，對來稿文章質量要求很高，稿件投稿過審難度很大，刊登文章的學術水平和編輯質量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領域專業的發展。我們歡迎廣大同領域的研究者提交投稿。

聲明：以上信息摘自網絡公開資料，如有不準確，請聯系我們。