根據(jù)最新信息《Physics Of Plasmas》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標學科分區(qū)學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名21 / 40，百分位48.8%；按JCI指標學科分區(qū)在學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名15 / 40，百分位63.75%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 21 / 40 |
48.8% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 15 / 40 |
63.75% |
這表明該刊在物理：流體與等離子體領(lǐng)域具有較高的學術(shù)影響力和認可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：1994年，影響因子：2，出版周期：Monthly、出版商：American Institute of Physics以及收錄情況等信息也為其學術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標。
聲明：以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開資料，如有不準確，請聯(lián)系我們。
