根據(jù)最新信息《International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名278 / 352，百分位21.2%；MECHANICS，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名137 / 170，百分位19.7%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名152 / 179，百分位15.4%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名319 / 354，百分位10.03%MECHANICS，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名152 / 170，百分位10.88%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名164 / 179，百分位8.66%。
投稿咨詢(xún)| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 352 |
21.2% |
| 學(xué)科：MECHANICS | SCIE | Q4 | 137 / 170 |
19.7% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 152 / 179 |
15.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 319 / 354 |
10.03% |
| 學(xué)科：MECHANICS | SCIE | Q4 | 152 / 170 |
10.88% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 164 / 179 |
8.66% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時(shí)間：1995年，影響因子：1.1，出版周期：Quarterly、出版商：IOS Press以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
聲明：以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確，請(qǐng)聯(lián)系我們。
影響因子：1.1
大類(lèi)學(xué)科：工程技術(shù)
中科院：4區(qū)