《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志社的通訊方式如下：SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。
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期刊簡介：
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》是一本由SPIE出版商出版的物理與天體物理學術期刊，國際簡稱為J MICRO-NANOLITH MEM，中文名稱《微納光刻技術雜志》。該刊自2007年創刊以來，一直以年度Quarterly形式出版。并被國際知名權威數據庫SCIE收錄。
該刊專注于工程：電子與電氣及相關領域的前沿研究，致力于推動該領域新技術和新知識的傳播與應用。它鼓勵研究人員詳細發表高質量的實驗研究和理論成果，為學術交流提供高質量的平臺。
該刊的平均審稿周期 較慢,6-12周 。自創刊以來， 《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》在工程：電子與電氣領域一直具有很高的影響力，對稿件質量要求嚴格。
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志的影響因子為0，屬于未開放OA期刊，Gold OA文章占比：7.69%。且被收錄于國際知名權威數據庫SCIE。
投稿咨詢影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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